1. 机械抛光方式
所谓的机械抛光就是靠切削、材料表面塑性变形去掉被抛光后的凸部而得到平滑面的抛光方法，大多采用油石条、羊毛轮、砂纸等，以手工操作为主，特-殊0件如回转体表面，可使用转台等辅-助工具，表面质量 要求高的可采用精研抛的方式。精研抛是采用特-制的磨具，在含有磨料的研抛液中，紧压在工件被加工表面上，作高速运动。利用该技数可以达到 Ra0.008 μ m 的表面粗糙度，是各抛光方法中高及的。光学镜片模具常采用这种方法。

2. 化学抛光方式
化学抛光工艺是让材料在化学介质中表面微观凸出的部分较凹部分优先溶解，从而得到平滑面。这种抛光方法主要优点是不需复杂设备，可以抛光形状复杂的工件，可以同时抛光很多工件，效率高。化学抛光的核-心问题是抛光液的配制。化学抛光得到的表面粗糙度一般为数 10 μ m 。